其他工業

光刻工藝過濾

光刻膠是微電子行業的工藝流程中設計到微細圖形加工的關鍵材料之一。例如集成電路的生產中就使用了光刻膠，印刷工業也是光刻膠的另一重要應用領域，同時還有模擬半導體、發光二極管、太陽能光伏、生物芯片、光電子器件/光子器件等領域。光刻膠的生產使用技術復雜，品種較多，衡量標準也很多，光刻膠的比重是衡量光刻膠密度的重要指標，較大的比重意味著光刻膠中固體的含量更多，粘滯性越高、流動性更差。越小的粘滯性就越有均勻的光刻膠厚度。

光刻膠生產有著嚴格的潔凈度要求，通濾科技結合產品過濾實際，各種污染物，金屬離子的析出要求，制定了這類特殊產品的過濾解決方案，確保了產品的質量。

電子化學品過濾

電子化學品又稱電子化工材料。即電子元器件、印刷線路板、工業及消費類整機生產和包裝用各種化學品及材料。主要有基板、光致抗蝕劑、電鍍化學品、封裝材料、高純試劑、特種氣體、溶劑、清洗前摻雜劑、焊劑掩模、酸及腐蝕劑、電子專用膠黏劑及輔助材料等大類。

高品質電子化學品是保證半導體、液晶顯示、太陽能行業產品的優質品質的重要產品之一，因此電子化學品對其生產過程中的顆粒以及金屬離子的控制有著非常苛刻的要求。

通濾科技為您制定化學品過濾系列濾芯的高效率、低析出的特點能夠滿足多種苛刻條件的化學品過濾，保證化學品的高品質。

FPD濕制程過濾

FPD濕制程主要是針對平板液晶顯示、半導體、觸摸屏、五金電鍍、太陽能、PCB（印制電路板）、LCD（液晶顯示器）、LED（發光二極管）等技術領域的工藝

電子行業中多種復雜的工藝和領域都有涉及FPD濕制程工藝，濕法設備幾乎占據工藝的30%以上，所以在工藝過程中，清洗、顯影、刻蝕、剝離都是有嚴格要求的。比如在PCB的濕制程中，通常使用醋酸、硝酸等混合酸液進行蝕刻工藝處理。蝕刻液的潔凈度會直接影響到PCB**終成品的性能和效果，因此濕制程中各種蝕刻液，剝離液，甚至是各種化學品、化學藥液等用品的潔凈度是非常重要的，這些溶液的過濾就顯得非常重要。

廠務系統過濾

半導體制造等過程中，廠務系統要為FAB的生產制造大批量，長時間不間斷的供應用潔凈的工藝氣體，超純水，超凈電子化學品等。

廠務系統要為各種工藝流程提供支持應援工作，主要包括一般氣體和特殊氣體的供應、超純水供應、中央化學品的供應、潔凈室的濕度空氣潔凈度的維持、廢水和廢氣的處理、冷卻水的供應等。所以對過濾的穩定性也有很高的要求。

過濾目的:

    去除藥液、水中的顆粒、凝膠物。

過濾要求：

    1流量大,機械強度高,壽命長;

    2過濾效果好。